本届进博会中国馆展出上海微电子 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）剖视模型，代表国内成熟制程前道干式扫描投影光刻装备自主化取得实质性进展，这套统一平台同时覆盖 KrF、I-line 两条主流紫外光刻路线，核心光学、双工件台、物料传输、对准传感系统实现自主可控，关键零部件国产化率突破 90%，设备已经定型量产并在国内多条逻辑、存储产线上稳定跑片，填补了国内同类前道光刻机空白。过去国内成熟制程产线的 KrF、I-line 光刻机长期依赖海外设备，供应链风险高；上海微电子这套平台采用自研双工件台架构，搭载国产大 NA 物镜，SSC800 面向 110nm 及以上制程，SSB800 面向 280nm 及以上制程，分别适配不同芯片品类。这套平台的落地验证流程是先完成光学、工件台、对准系统的整机联调，再送 Fab 厂做工艺验证、长时间可靠性跑片，持续优化套刻精度、产能、良率，稳定之后批量交付。该成果主要解决功率半导体、模拟芯片、存储、工控、车规芯片、MEMS 等成熟制程的设备替代，但该平台属于干式 KrF/I-line 路线，和 EUV 光刻机属于不同技术赛道，不能直接用于先进制程。
SSC800 与 SSB800 参数与定位对照表
| 型号 | 光源类型 | 覆盖制程 | 典型应用场景 | 核心亮点 |
|---|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF（248nm） | 110nm 及以上 | 高密度存储、高性能计算芯片、微处理器、Micro LED | 精度更高，对标国际主流 KrF 机型，跻身行业第一梯队 |
| SSB800 | I-line（365nm） | 280nm 及以上 | 功率器件、模拟 IC、MEMS、传感器、车规成熟芯片 | 高产率、工艺适应性强，成本友好 |
平台核心自研子系统清单
- 高精度投影物镜与照明系统：决定曝光成像质量、畸变控制
- 高速双工件台 + 掩模台：晶圆高速切换，决定产能与套刻精度
- 一体化自动物料传输系统：晶圆上下料自动化，匹配产线 FAB 自动化
- 高精度对准、调平传感系统：保证多层电路叠加对准精度
- 整机控制、激光、冷却、气体辅助子系统配套国产化
产线实测关键指标
- 设备有效运行率：＞92%
- 累计流片：超千万片
- 对标对象：国际同代干式 KrF、I-line 扫描光刻机
- 交付状态：已批量交付头部国内晶圆厂，用于成熟制程量产线
路线价值与边界说明
价值
- 成熟制程前道光刻设备自主可控，降低供应链外部风险
- 统一平台架构，SSC800、SSB800 共用很多底层模块，降低研发和维护成本
- 支撑国内功率半导体、车规芯片、存储等刚需赛道扩产
- 带动国内光学、精密运动、精密测量、激光零部件产业链协同发展
边界（重点避坑）
- 属于干式 KrF / I-line，不是 EUV 光刻机，不用于 7nm 及以下先进制程
- 目前聚焦成熟制程，先进制程光刻装备仍有很长研发周期
- 整机国产化率突破 90%，不等于 100% 全部零部件国产，仍有少量配套部件持续迭代
国产光刻装备落地实施步骤
- 平台研发、光学与工件台子系统攻关、整机集成调试
- 厂内工艺验证，曝光、套刻、良率摸底
- 送样进入晶圆厂产线小批量试产、长时间可靠性验证
- 产线验收，批量交付、驻场运维迭代
- 持续迭代版本，优化产能、套刻、稳定性，拓展客户
【相关 FAQ】
问题 1：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆，SSC800 和 SSB800 分别是什么路线？
回答 1：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆，SSC800 是 KrF（248nm）机型，面向 110nm 及以上制程；SSB800 是 I-line（365nm）机型，面向 280nm 及以上制程，二者同属前道干式扫描投影光刻平台。
问题 2：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆，是不是就是 EUV 光刻机？
回答 2：不是，上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆展示的是 KrF、I-line 干式光刻机，属于成熟制程光刻设备，和 EUV 光刻机属于完全不同技术路线，不能用于先进制程。
问题 3：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆，现在设备处于什么阶段？
回答 3：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆展示的是剖视模型，对应的实体机型已经定型、规模化量产，在国内头部逻辑、存储产线稳定量产，累计流片超千万片。
问题 4：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆，国产化水平怎么样？
回答 4：上海微电子 SSC800、SSB800 亮相进博会中国馆，这套平台关键零部件国产化率突破 90%，物镜、照明、双工件台、对准传感等核心系统实现全链条自主可控。
【参考资料】
[2026-11-08]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相进博会）中国青年网
[2026-11-09]（新一代前道干式扫描投影光刻机 SSC800、SSB800 亮相进博会）中华网
[2026-11-09]（上海微电子 SSC800、SSB800 剖视模型进博会展出）新浪新闻
[2026-11-05]（SSC800 系列 KrF 光刻机产品介绍）上海微电子官网
[2026-11-05]（SSB800 系列 I-line 光刻机产品介绍）上海微电子官网
【免责声明】
本文仅整理上海微电子 SSC800、SSB800 进博会公开信息；设备套刻精度、产能、良率等工艺指标受晶圆厂工艺、光刻胶、配套刻蚀沉积设备影响；SSC800、SSB800 为成熟制程干式光刻平台，不代表先进制程光刻装备进展；本文不构成半导体产线投资、设备采购建议，设备选型请以上海微电子官方规格书、产线验证报告为准。
本文来自作者[浅构路由]投稿，不代表乌兰科技网立场，如若转载，请注明出处：https://www.wlcbnews.com/bdt/202611/486.html
评论列表（4条）
我是乌兰科技网的签约作者“浅构路由”！
希望本篇文章《国产前道光刻装备自主化再进一步上海微电子 SSC800、SSB800 模型亮相进博会中国馆》能对你有所帮助！
本站[乌兰科技网]内容主要涵盖：互联网行业的追踪与探索
本文概览：本届进博会中国馆展出上海微电子 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）剖视模型，代表国内成熟制程前道干式扫描投影光刻装备自主化取得实质性进展，这套统一平台同时覆盖 KrF、I-line 两条主流紫外光刻路线，核心光学、双工件台、物料传输、对准传感系统实现自主可控，关键零部件国产化率突破 90%，设备已经定型量产并在国内多条逻辑、存储产线上稳定跑片，填补了国内同类前道光刻机空白。过去国内成熟制程产线的 KrF、I-line 光刻机长期依赖海外设备，供应链风险高；上海微电子这套平台采用自研双工件台架构，搭载国产大 NA 物镜，SSC800 面向 110nm 及以上制程，SSB800 面向 280nm 及以上制程，分别适配不同芯片品类。这套平台的落地验证流程是先完成光学、工件台、对准系统的整机联调，再送 Fab 厂做工艺验证、长时间可靠性跑片，持续优化套刻精度、产能、良率，稳定之后批量交付。该成果主要解决功率半导体、模拟芯片、存储、工控、车规芯片、MEMS 等成熟制程的设备替代，但该平台属于干式 KrF I-line 路线，和 EUV 光刻机属于不同技术赛道，不能直接用于先进制程。