第九届进博会中国馆展出上海微电子 SMEE 新一代前道干式扫描投影光刻机 SSC800、SSB800 剖视模型，标志国内成熟制程前道光刻装备自主化取得阶段性突破。两款机型分别采用 KrF、I-line 光源，核心物镜照明系统、双工件台、对准传感、晶圆传输等关键子系统全部自研，关键零部件国产化率突破 90%，设备已经定型量产、在国内头部产线稳定跑量，累计流片超千万片，设备有效运行率高于 92%，成像指标对标国际同类型干式光刻机。展出的模型做透明剖视处理，可以直观看到内部光路、工件台与机电结构，方便外界理解这套复杂装备的工作逻辑。需要明确区分，这两款属于干式光刻机，并非 EUV 光刻机，主攻 110nm、280nm 及以上成熟制程，面向功率半导体、模拟芯片、存储、MEMS、Micro LED 等赛道，这类成熟制程芯片是汽车电子、工控、电源产业链的基础底盘，对半导体供应链安全意义重大。
两款机型核心参数汇总表
| 型号 | 光源类型 | 覆盖制程 | 主要应用赛道 | 性能定位 |
|---|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF（248nm） | 110nm 及以上 | 存储芯片、微处理器、Micro LED | 整体性能跻身国际同类型第一梯队，主力量产机型 |
| SSB800 | I-line（365nm） | 280nm 及以上 | 功率器件、模拟 IC、MEMS 传感器 | 工艺适应性强，适配大批量特色工艺产线 |
平台自研核心模块说明
- 自研大 NA 投影物镜与照明系统：决定曝光均匀度、分辨率，是光刻机最核心光学组件
- 高速双工件台 + 掩模台：一片晶圆曝光，另一片同步预对准，保障产线产能
- 高精度对准、调平传感系统：控制多层电路套刻误差，保障叠层工艺良率
- 全自动晶圆物料传输系统：适配无尘 Fab 产线自动化生产流程
关注点核对清单
- 路线区分：SSC800、SSB800 为干式成熟制程机型，不覆盖 EUV 先进制程，不要混淆概念
- 国产化定义：关键零部件国产化率超 90%，不等于全部零部件实现国产替代，剩余零部件还在持续迭代攻关
- 量产验证：设备已经交付产线，不是实验室样机，长期稼动数据验证了设备稳定性
- 产业价值：成熟制程芯片市场需求巨大，这套装备保障成熟工艺光刻供给，稳住国内半导体产业基本盘
- 后续方向：该标准化平台会持续优化套刻精度、产能，同时支撑下一代光刻技术预研
【相关 FAQ】
问题 1：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，展出的是 EUV 光刻机吗？
回答 1：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，本次展出的 SSC800、SSB800 属于干式扫描光刻机，并不是 EUV 光刻机，面向成熟制程。
问题 2：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，SSC800 和 SSB800 有什么区别？
回答 2：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，SSC800 是 KrF 光源，主打 110nm 及以上制程，用于存储、微处理器；SSB800 是 I-line 光源，覆盖 280nm 及以上，主打功率半导体、MEMS。
问题 3：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，国产化水平怎么样？
回答 3：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，这套平台关键零部件国产化率突破 90%，光学、工件台、对准等核心子系统实现自主可控。
问题 4：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，这些设备已经在工厂使用了吗？
回答 4：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相，设备已经定型量产，在国内头部存储、功率半导体产线长期稳定运行，累计流片超过千万片。
【参考资料】
[2026-11-08]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相进博会）中国青年网
[2026-11-09]（我国新一代光刻机模型亮相进博会，有何深意？）澎湃新闻
[2026-11-09]（SMEE displays next-generation dry lithography platform at CIIE）TrendForce
[2026-11-09]（上海微电子新一代前道光刻机平台模型亮相进博会）太平洋科技
【免责声明】
本文内容基于进博会现场展品、上海微电子公开信息及权威媒体报道整理；干式成熟制程光刻机和 EUV 光刻机技术路线差异巨大，本文信息不代表先进制程光刻机研发进展；半导体装备研发迭代存在不确定性，本文不构成行业投资决策建议。
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