三星、SK 海力士两大存储厂商正在争抢 ASML 的 EUV 光刻机交付配额,用来支撑下一代先进 DRAM 产能扩张,单家企业对应的投资上限接近千亿元人民币,AI 服务器拉动 DDR5、HBM 配套 DRAM 需求持续走高,而先进 1c、1D、0a DRAM 制程离不开 EUV 光刻设备,现在 EUV 整体产能紧张、交付周期拉长,能不能提前锁定设备排期,直接决定两家后续先进存储的量产节奏,两家投资区间大约 10 万亿到 20 万亿韩元,也就是 526 亿到 1053 亿元,SK 海力士已经在今年 3 月落地大额 EUV 采购订单,三星同步推进平泽 P5 新晶圆厂布局,后续还规划引入 High-NA EUV 面向更下一代 DRAM 节点,这场设备卡位战不只是扩产能,也是为了守住在全球 DRAM 市场的份额。
传统成熟 DRAM 节点不用大量 EUV,但是进到 10nm 级第六代 1c DRAM 之后,电路线宽进一步缩小,EUV 需要使用的光刻层数提升到 5 层以上,继续靠多重曝光工艺成本、良率都很难控制;ASML 方面已经预警,就算 2027、2028 年持续提升 EUV 设备产能,依然跟不上存储、逻辑芯片客户的订单需求,交付周期相比之前直接翻倍,所以存储厂商都在提前锁单,甚至预订比较远期的交付档期。
存储双雄 DRAM 与 EUV 投资信息清单
| 企业名称 | 投资规模区间 | 核心产线 | 规划制程节点 | 设备交付时间 |
|---|---|---|---|---|
| SK 海力士 | 10~20 万亿韩元 | 龙仁 Y1 晶圆厂 | 1c DRAM,后续 1D、0a DRAM | 2027 年底前交付 |
| 三星电子 | 10~20 万亿韩元 | 平泽 P4、P5 工厂 | 1c、1D DRAM,布局 High-NA EUV | 2027 年起逐步进场,P5 计划 2028 投产 |
先进 DRAM 扩产 + EUV 设备落地流程
- 企业根据 AI 存储需求、制程迭代路线,制定 DRAM 扩产规划,确定无尘厂房建设进度。
- 向 ASML 提交 EUV 光刻机采购意向、长期锁单协议,争夺有限交付排期。
- 厂房洁净室建设、配套气体、水电、光刻配套模块同步施工。
- 光刻机到货进场、安装调试、机台验证、工艺 Recipe 开发。
- 试跑 1c DRAM 晶圆,验证良率,逐步爬坡量产,同步推进 HBM 配套 DRAM 生产。
- 根据市场供需、良率情况,决定是否追加下单 High-NA EUV 设备,布局 0a DRAM。
综合来看,存储双雄争夺 EUV 光刻机是 AI 存储红利下的产能卡位动作,千亿级资金投入的核心目标是先进 DRAM 和 HBM 配套产能,不过 EUV 供给瓶颈短期很难缓解,资本开支压力、设备到货延迟、良率爬坡风险都会影响最终落地效果。
【相关 FAQ】
问题 1:存储双雄争夺 EUV 光刻机支撑先进 DRAM 扩产,这里的存储双雄指哪两家企业?
回答 1:存储双雄争夺 EUV 光刻机支撑先进 DRAM 扩产,存储双雄就是三星电子和 SK 海力士,也是全球 DRAM 市场份额最高的两家厂商。
问题 2:存储双雄争夺 EUV 光刻机支撑先进 DRAM 扩产,是不是所有 DRAM 芯片都需要 EUV 光刻机?
回答 2:不是,存储双雄争夺 EUV 光刻机主要为 1c 以及更下一代先进 DRAM 节点,老一代成熟 DRAM 制程不需要大规模使用 EUV 光刻机。
问题 3:存储双雄争夺 EUV 光刻机支撑先进 DRAM 扩产,EUV 设备紧缺的局面什么时候可以缓解?
回答 3:短期很难快速缓解,ASML 预判即便持续扩产,2027、2028 年 EUV 供给依然跟不上客户需求,存储双雄才会提前抢订 EUV 光刻机排期。
【参考资料】
[2026-11-10](存储双雄争夺 EUV 光刻机 以支撑先进 DRAM 扩产 单家投资上限接近千亿)财联社
[2026-11-10](存储双雄争夺 EUV 光刻机,单家投资千亿扩产 DRAM)新浪财经
[2026-11-09](三星 SK 海力士争抢 EUV 配额 各投超 10 万亿韩元扩产 DRAM)36 氪
【免责声明】
以上内容为存储双雄采购 EUV 光刻机、先进 DRAM 扩产行业公开信息整理,设备订单金额、交付排期、制程量产时间存在调整可能性;本文仅为行业资讯科普,不构成半导体行业投资、芯片采购相关决策建议,最终项目进展、设备交付情况以 ASML、三星、SK 海力士官方公告为准。
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